應(yīng)用介紹
本film膜厚測試儀應(yīng)用在透明及半透明材料的厚度或涂層的測量，包括半導體鍍膜,光刻膠，玻璃減反膜測量，藍寶石鍍膜,ITO玻璃，太陽能鍍膜玻璃，各種襯底上的膜厚，膜的顏色測量，卷對卷柔性涂布，其他需要測量膜厚的場合等，無論有無底材或者底材是何種材料均無影響。應(yīng)用在精密半導體wafer,ITO玻璃，fpc或pcb膜厚，材料表面光學鍍膜，電鍍陽極處理，UV膠厚等領(lǐng)域。
系統(tǒng)結(jié)構(gòu)：
產(chǎn)品型號 | A3-ST-100 | A3-SR-100 | A3-ST-200 | A3-SR-200 | A3-ST-300 | A3-SR-300 |
產(chǎn)品尺寸
| W270*D217*H90 測試支架 （可根據(jù)客戶需求調(diào)整） | W270*D217*H90 測試支架 （可根據(jù)客戶需求調(diào)整） | W270*D217*（H90+H140） 測試支架 （可根據(jù)客戶需求調(diào)整） | W270*D217*（H90+H140） 測試支架 （可根據(jù)客戶需求調(diào)整） | W270*D217*H90 測試支架 （可根據(jù)客戶需求調(diào)整） | W270*D217*H90 測試支架 （可根據(jù)客戶需求調(diào)整） |
測試方式 | 可見光(VIS ) 透射(T) | 可見光VIS 反射(R) | 紫外+可見UV+VIS 透射(T) | 紫外+可見+UV+VIS 反射(R) | IR 透射(T) | IR 反射(R) |
波長范圍 | 380 - 780 nm | 380 - 780 nm | 250 - 1000 nm | 250 - 1000 nm | 900 - 1200 nm | 900 - 1200 nm |
光源 | 鎢鹵素燈 | 鎢鹵素燈 | 鎢鹵素燈+氘燈 | 鎢鹵素燈+氘燈 | 鎢鹵素燈 | 鎢鹵素燈 |
光路和傳感器 | 光纖式(FILBER )+進口光譜儀 | |||||
入射角 | 0 度 (垂直入射) (0 DEGREE) | |||||
參考光樣品 | 硅片 | |||||
光斑大小 LIGHT SPOT | About 1 mm（標配，可以根據(jù)用戶要求配置） | |||||
樣品大小 SAMPLE SIZE | 10 mm TO 300 mm (可以根據(jù)用戶要求配置) | |||||
測試方式 | 反射， 透射 |
透射準確性 Transmission Accuracy | 1% |
反射準確性 Reflaction Accuracy | 1% |
精度
| 0.1% |
膜厚測量性能指標（THICKNESS SPECIFICATION）：
產(chǎn)品型號 | A3-SR-100 | A3-SR-200 | A3-SR-300 |
厚度測量1 Thickness | 15 nm - 100 um
| 2nm - 200 um | 500nm-1000um |
折射率1（厚度要求） N | 100 nm 以上 | 50nm and up | --------------- |
準確性2 Accuracy | 2 nm 或0. 5% | ||
精度3 precision | 0.1 nm | ||
1、表內(nèi)為典型數(shù)值, 實際上材料和待測結(jié)構(gòu)也會影響性能
2、使用硅片上的二氧化硅測量，實際上材料和待測結(jié)構(gòu)也會影響性能
3、使用硅片上的二氧化硅（500納米）測量30次得出的1階標準均方差,每次測量小于1秒.
軟件(SOFTWARE)：
檢測項目 | 標準型 |
層數(shù) | 10 層 |
材料 | 表格型和函數(shù)型 |
粗糙度模型 | 有 |
反射/透射 | 反射型+透射型 |
材料庫 | 表格型+函數(shù)型 |
入射角 | 垂直入射 |
折射率測量 | 有 |
售后服務(wù)（GARANTEE AND ASERVICE）：
基本服務(wù) |
1年免費軟件升級 |
1年材料庫更新 |
1年免費失效零件更換(燈泡,光纖,硅片除外) |
